晶迈中科钽靶材Ta

晶迈中科科研实验钽靶材Ta磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      钽（Ta）为钢灰色金属，硬度较低（与含氧量相关），富有延展性，可以拉成细丝式

制薄箔，韧性很强，比铜还要，热膨胀系数很小；钽还有非常出色的化学性质，具有

的抗腐蚀性，无论是在冷和热的条件下，对盐酸、浓硝酸及“王水”都不反应，但钽

在热的浓硫酸中能被腐蚀，这样的情况在金属中是比较的。在制取各种无机酸的设备

中，钽可用来替代不锈钢，寿命可比不锈钢提高几十倍；此外，在化工、电子、电气等工

业中，钽可以取代过去需要由贵重金属铂承担的任务，使所需费用大大降低。

产品参数

中文名 钽       元素符号 Ta     相对原子质量 180.9479

原子序数 73   熔点 2996°C    沸点 5425°C

纯度 99.99%

支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

      陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

       我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

       注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

       建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。